[发明专利]一种光辐射阻隔薄膜在审

专利信息
申请号: 201510558315.2 申请日: 2015-09-06
公开(公告)号: CN105172261A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 杜成城;尹瑞堂 申请(专利权)人: 汕头万顺包装材料股份有限公司
主分类号: B32B15/04 分类号: B32B15/04;B32B23/00;B32B27/00
代理公司: 汕头新星专利事务所 44219 代理人: 林希南
地址: 515078 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种光辐射阻隔薄膜。本发明为了解决现有同类光辐射阻隔薄膜存在复合金属层的二个不同材质金属层结合能力较差,容易脱层,不耐用,当被弯曲或受热膨胀时容易发生层间损坏的缺陷。技术方案要点:由透明基膜以及附着于其上的反射层构成,特征是所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成,所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料,所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料,所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型,所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。
搜索关键词: 一种 光辐射 阻隔 薄膜
【主权项】:
一种光辐射阻隔薄膜,由透明基膜以及附着于其上的反射层,其特征是:所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成,所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料,所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料,所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型,所述反射层的总厚度控制在5‑50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5‑15nm。
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