[发明专利]一种Pd‑MoS2异质结光伏太阳能电池器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510558994.3 申请日: 2015-09-06
公开(公告)号: CN105226125B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 郝兰众;刘云杰;高伟;韩治德;薛庆忠 申请(专利权)人: 中国石油大学(华东)
主分类号: H01L31/072 分类号: H01L31/072;H01L31/18
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司37205 代理人: 毛胜昔
地址: 266555 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开一种Pd‑MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd‑MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极。其制备方法,主要采用直流磁控溅射技术、利用高能电子轰击Pd‑MoS2靶材表面,以溅射出大量离子并在经过钝化处理后的Si单晶基片表面上沉积成薄膜;并制备出前电极与背电极层,即成。本发明的Pd‑MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其开路电压、短路电流密度和光转换效率,相对于现有技术的同类产品,分别提高了60%、160%和300%以上。本发明的工艺简单、生产过程及产品均绿色环保,成品率高、制造成本低,适于规模化工业生产。
搜索关键词: 一种 pd mos2 异质结光伏 太阳能电池 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Pd‑MoS2异质结光伏太阳能电池器件,其特征在于,为层状结构,由上至下依次包括Pd金属前电极、Pd‑MoS2薄膜层、第一SiO2绝缘缓冲层、Si单晶基片、第二SiO2绝缘缓冲层和金属In背电极;其中:所述Si单晶基片是单面抛光,晶面取向为(100)面、导电类型为n型;所述第一SiO2绝缘缓冲层和第二SiO2绝缘缓冲层的厚度均为1‑3nm;所述Pd‑MoS2薄膜层、Pd金属前电极和金属In背电极的厚度分别为10‑30nm、30‑40nm、0.2mm;上述Pd‑MoS2薄膜层中,Pd与MoS2的摩尔比为0.5‑5︰95‑99.5。
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