[发明专利]释放负离子功能面膜在审
| 申请号： | 201510559161.9 | 申请日： | 2015-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN105616271A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李青山;刘焕萍;王玉;张蕴龄 | 申请（专利权）人： | 北京森源华诚科技发展有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/97 | 分类号： | A61K8/97;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100020 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 释放负离子功能面膜以基质粉剂、水、表面活性剂、保湿剂等为基本原料，利用后添加的工艺技术，在普通面膜中添加以连翘、金银花、负离子添加剂为主要原料的助剂，使其具有美容、保健的功效。本发明的特征是配方如下：豆类基质粉剂50-100；连翘、金银花0.1-20；负离子添加剂0.1-5；表面活性剂0.1-5；保湿剂0.1-10。面膜是以基质粉剂、水、表面活性剂、保湿剂等为基本原料通过研磨、分散、混匀等工艺制成。 | ||
| 搜索关键词： | 释放 负离子 功能 面膜 | ||
【主权项】：
释放负离子功能面膜以基质粉剂、水、表面活性剂、保湿剂等为基本原料，利用后添加的工艺技术，在普通面膜中添加以连翘、金银花、负离子添加剂为主要原料的助剂，使其具有美容、保健的功效。本发明的特征是配方如下：豆类基质粉剂50‑100；连翘、金银花0.1‑20；负离子添加剂0.1‑5；表面活性剂0.1‑5；保湿剂0.1‑10。
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