[发明专利]成像靶优化方法及成像系统有效
| 申请号： | 201510570857.1 | 申请日： | 2015-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN105148412B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 韩卫;刘艳芳;李贵;J·S·墨子 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/06 | 分类号： | A61N5/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种成像系统，包括：加速器，用于产生高速电子；成像靶，受到高速电子的撞击后生成用于成像的射线；探测器，探测穿过病人的成像射线，所述成像靶还用于，将高速电子转化为低能成像射线。本发明通过对成像靶的材料和结构进行调整，将加速器发出的兆伏级电子束转换为符合成像条件的光子射线，减少患者承受的剂量的同时也有利于提高成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 优化 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种成像靶优化方法，其特征在于，包括：确定成像所需光子能谱范围；根据所述成像所需光子能谱范围中的光子能谱所占比确定成像靶材料和成像靶的厚度，其中，所述成像靶用于以兆伏级别的电子束产生用于成像的低能量光子射线，所述低能量光子射线的光子能谱中50‑200keV范围内光子能谱占比大于等于50％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司，未经上海联影医疗科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510570857.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
