[发明专利]静电放电保护结构在审
申请号: | 201510571157.4 | 申请日: | 2015-09-10 |
公开(公告)号: | CN106531726A | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 吕宇强 | 申请(专利权)人: | 帝奥微电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/60 | 分类号: | H01L23/60;H01L27/02 |
代理公司: | 上海宏威知识产权代理有限公司31250 | 代理人: | 袁辉 |
地址: | 201103 上海市闵行区合*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种静电放电保护结构,其特征在于,包括具有第一掺杂类型或者第二掺杂类型的衬底;具有第一掺杂类型的体区,设置于该衬底上;具有重掺杂的第二掺杂类型的第一有源区,设置于该体区内;具有轻掺杂的第二掺杂类型的漂移区,设置于该衬底上;栅极结构,部分覆盖于该第一有源区以及该漂移区上;具有重掺杂的第二掺杂类型的第二有源区,设置于该漂移区未被该栅极结构覆盖的位置上;以及具有重掺杂的第二掺杂类型的第三有源区,设置于该漂移区被该栅极结构覆盖的部分与该第二有源区之间。 | ||
搜索关键词: | 静电 放电 保护 结构 | ||
【主权项】:
一种静电放电保护结构,其特征在于,包括:衬底,具有第一掺杂类型或者第二掺杂类型;体区,设置于该衬底上,具有第一掺杂类型;第一有源区,设置于该体区内,具有重掺杂的第二掺杂类型;漂移区,设置于该衬底上,具有轻掺杂的第二掺杂类型;栅极结构,部分覆盖于该第一有源区以及该漂移区上;第二有源区,设置于该漂移区未被该栅极结构覆盖的位置上,具有重掺杂的第二掺杂类型;以及第三有源区,设置于该漂移区被该栅极结构覆盖的部分与该第二有源区之间,具有重掺杂的第二掺杂类型;其中,该第三有源区的长度为第一长度,且与该第二有源区之间的距离为第二长度。
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