[发明专利]覆晶芯片失效分析方法及电性定位中检测样品的制备方法有效
申请号: | 201510572283.1 | 申请日: | 2015-09-10 |
公开(公告)号: | CN105206546B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 李鹏云;刘国庆;葛金发;曾元宏 | 申请(专利权)人: | 宜特(上海)检测技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海唯源专利代理有限公司31229 | 代理人: | 曾耀先 |
地址: | 201103 上海市闵*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种覆晶芯片失效分析方法及电性定位中检测样品的制备方法,所述制备方法包括提供待测的覆晶芯片,包括封装基底与制备于封装基底上的裸片,裸片的外部覆盖有塑封体,裸片与封装基底之间连接有金凸块,封装基底的底部焊接有锡球;研磨裸片外部的塑封体直至裸露出裸片的晶背;将裸片的背面结合到一玻璃基板上,玻璃基板上设有导电片;用封装绑线将玻璃基板上的导电片与封装基底底部的锡球电性连接,以得到检测样品。本发明覆晶芯片失效分析检测样品的制备方法,通过研磨掉裸片的背面的塑封体,再将裸片的背面结合在玻璃基板上进行失效分析,不必腐蚀塑封体以及分离封装基底与裸片,从而避免了取裸片的过程中金凸块被腐蚀的可能性。 | ||
搜索关键词: | 芯片 失效 分析 方法 定位 检测 样品 制备 | ||
【主权项】:
一种覆晶芯片失效分析电性定位中检测样品的制备方法,其特征在于,包括:提供待测的覆晶芯片,所述覆晶芯片包括封装基底与制备于所述封装基底上的裸片,所述裸片的外部覆盖有塑封体,所述裸片与所述封装基底之间连接有金凸块,所述封装基底的底部焊接有锡球;研磨所述裸片外部的所述塑封体直至裸露出所述裸片的晶背;将所述裸片的背面结合到一玻璃基板上,所述玻璃基板上设有导电片;用封装绑线将所述玻璃基板上的导电片与所述封装基底底部的锡球电性连接,以得到检测样品。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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