[发明专利]承载装置及反应腔室

摘要

本发明提供了一种承载装置及反应腔室。本发明提供的承载装置其包括托盘和盖板，托盘上设置有承载基片的凸台，盖板包括板体，板体上设置有与凸台一一对应且套置在凸台侧壁外侧的通孔，沿每个通孔周向上间隔设置的多个压爪，每个压爪用于叠压在基片的边缘区域，以将基片固定在凸台上；板体的上表面高于基片的上表面，每个通孔的内壁和对应的凸台的侧壁之间设置有预设间隙，且凸台的直径不小于基片的直径。本发明提供的承载装置及反应腔室，可以改善基片的刻蚀均匀性，可以降低主刻蚀步骤完成之后产生的拐角的最高高度，这样，就可以缩短过刻蚀步骤的工艺时间来消除该拐角，从而可以提高产量。

主权项

1.一种承载装置，其包括托盘和盖板，所述托盘上设置有承载基片的凸台，所述盖板包括板体，所述板体上设置有与凸台对应且套置在所述凸台侧壁外侧的通孔，沿所述通孔周向上间隔设置的多个压爪，每个所述压爪用于叠压在所述基片的边缘区域，以将基片固定在所述凸台上；其特征在于，所述板体的上表面高于所述基片的上表面，所述通孔的内壁和对应的所述凸台的侧壁之间设置有预设间隙，且所述凸台的直径不小于所述基片的直径。