[发明专利]一种基于模板制备多孔碳化硅陶瓷的方法在审
申请号: | 201510577885.6 | 申请日: | 2015-09-11 |
公开(公告)号: | CN105237034A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 刘永胜;万佳佳;董宁;张青;门静;成来飞;张立同 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C04B38/06 | 分类号: | C04B38/06;C04B35/565 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于模板制备多孔碳化硅陶瓷的方法,创造性地将模板法的思想与CVI工艺的特点结合起来,提出采用CVI法制备多孔SiC陶瓷,该法得到的多孔SiC陶瓷孔径较为均匀,且孔隙率可控,材料具有很大的比表面积。该方法可解决其他模板法出现的制备工艺较复杂,烧结温度较高等技术问题,且该工艺易于制备复杂构件,大大扩展了该法制备的多孔SiC陶瓷的使用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 模板 制备 多孔 碳化硅 陶瓷 方法 | ||
【主权项】:
一种基于模板制备多孔碳化硅陶瓷的方法,其特征在于步骤如下:步骤1:将按照设计要求加工的模板放入化学气相渗透炉CVI炉,以MTSCH3SiCl3作为先驱体,氢气作为载气和稀释气体,氩气作为保护气体进行化学气相渗透;在CVI过程中,生成的SiC陶瓷相覆盖在模板上得到多孔SiC陶瓷;所述模板为泡沫镍、泡沫碳或金属泡沫模板;步骤2、去除模板:当模板为泡沫镍或金属泡沫模板时采用酸化方法去除模板,当模板是泡沫碳时利用低温氧化燃烧的方法去除模板,得到多孔SiC陶瓷。
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