[发明专利]4.2~4.45μm透过中波红外滤光片及制备方法有效

专利信息
申请号: 201510578168.5 申请日: 2015-09-11
公开(公告)号: CN105137514B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 徐嶺茂;王济洲;董茂进;王多书;李凯朋;李坤;李晨;王超 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B1/10;C23C14/30
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 代理人: 刘洪京
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种4.2~4.45μm透过中波红外滤光片,包括锗基底,锗基底的两侧分别设有长波通膜系和短波通膜系,该长波通膜系和该短波通膜系均由交替叠加的锗膜层和硫化锌膜层构成;及其制备方法。该滤光片在4.2~4.5μm透过率高,在0.2~4.05μm和4.6~6.0μm谱段宽截止,膜层数较少,满足遥感探测系统使用要求。
搜索关键词: 45 透过 中波 红外 滤光 制备 方法
【主权项】:
一种4.2~4.45μm透过中波红外滤光片,其特征在于:包括锗基底,锗基底的两侧分别设有长波通膜系和短波通膜系,该长波通膜系和该短波通膜系均由交替叠加的锗膜层和硫化锌膜层构成;该长波通膜系的结构由第一膜堆、第二膜堆和第三膜堆连接构成,第一膜堆由0.5个基本厚度的锗膜层、1个基本厚度的硫化锌膜层和0.5个基本厚度的锗膜层构成;第二膜堆由0.37个基本厚度的锗膜层、0.74个基本厚度的硫化锌膜层和0.37个基本厚度的锗膜层构成;第三膜堆由0.32个基本厚度的锗膜层、0.64个基本厚度的硫化锌膜层和0.32个基本厚度的锗膜层构成;该基本厚度为825nm;该短波通膜系的结构由第四膜堆构成,第四膜堆由0.5个基本厚度的锗膜层、1个基本厚度的硫化锌膜层和0.5个基本厚度的锗膜层构成;该基本厚度为1325nm。
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