[发明专利]一种远紫外宽带反射式介质滤光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201510578795.9 | 申请日： | 2015-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN105137517B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 王孝东;陈波;王海峰;何飞;刘世界;郑鑫;马月英 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;G02B1/10 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙) 22210 | 代理人： | 刘慧宇 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种远紫外宽带反射式介质滤光片及其制备方法，属于光学薄膜技术领域，为满足广角极光成像仪成像的需要，该滤光片包括：基底和LaF3/MgF2非周期多层膜；LaF3/MgF2多层膜制作在融石英基底上；LaF3和MgF2交替沉积在基底上，靠近基底侧膜层为LaF3，最外层是MgF2；其制备方法是，将清洗后的基底装入清洁的真空室内，抽真空至2.0×10‑4Pa；将基底加热到某一温度，并保持60min；用电阻蒸发法沉积LaF3，用电子束蒸发法沉积MgF2，LaF3和MgF2交替沉积在基底上；LaF3膜层的沉积速率为0.3～0.5nm/s,MgF2膜层的沉积速率为0.5～0.7nm/s；晶振法控制膜层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 沉积 制备 介质滤光片 交替沉积 宽带反射 多层膜 远紫外 膜层 光学薄膜技术领域 电子束蒸发法 基底加热 控制膜层 成像仪 抽真空 非周期 滤光片 蒸发法 最外层 侧膜 晶振 石英 成像 装入 清洗 室内 清洁 制作 | ||
【主权项】：
1.一种远紫外宽带反射式介质滤光片，其特征是，该滤光片包括：基底和LaF3/MgF2非周期多层膜；所述LaF3/MgF2多层膜制作在融石英基底上；LaF3和MgF2交替沉积在基底上，靠近基底侧膜层为LaF3，最外层是MgF2；多层膜的层数在20‑40层。
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