[发明专利]隔垫物及其制造装置在审
| 申请号： | 201510583558.1 | 申请日： | 2015-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN105045034A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 刘桓;王醉;郭晋波;罗时勲 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G03F7/20;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种隔垫物制造装置，包括光罩和与所述光罩正对的曝光装置，所述光罩包括中心透光区和设于所述中心透光区外围的外围透光区，所述曝光装置发出的光线透过所述光罩后照射到负向光阻材料上，透过所述外围透光区的光线强度小于透过所述中心透光区的光线强度。本发明还公开了一种隔垫物。本发明只需一次曝光工艺即可实现“凸”字状隔垫物的制作，工艺简单，隔垫物制造成本低。同时，使用本发明的隔垫物制造装置制作的“凸”字状隔垫物的凸肩部的平整度可调，可以满足不同规格的隔垫物制造需求。 | ||
| 搜索关键词： | 隔垫物 及其 制造 装置 | ||
【主权项】：
一种隔垫物制造装置，其特征在于，包括光罩(10)和与所述光罩(10)正对的曝光装置(20)，所述光罩(10)包括中心透光区(10a)和设于所述中心透光区(10a)外围的外围透光区(10b)，所述曝光装置(20)发出的光线透过所述光罩(10)后照射到负向光阻材料上，透过所述外围透光区(10b)的光线强度小于透过所述中心透光区(10a)的光线强度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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