[发明专利]一种触控面板及其制备方法有效
申请号: | 201510586624.0 | 申请日: | 2015-09-15 |
公开(公告)号: | CN105159514B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 王俊 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种触控面板及其制备方法,属于显示技术领域,可提高触控面板的生产效率,降低触控面板的生产成本。该触控面板包括衬底基板,还包括:设置于所述衬底基板之上的触控电极、位于所述触控电极之上的黑矩阵,所述黑矩阵与所述触控电极的图案相同,且所述黑矩阵与所述触控电极完全重合。本发明可用于液晶电视、液晶显示器、手机、平板电脑等具有触控面板的显示装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 面板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种触控面板的制备方法,其特征在于,包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板之上依次形成透明导电层和黑色色阻层;利用对应于触控电极的光罩,对所述黑色色阻层进行构图工艺,形成黑矩阵;利用所形成的黑矩阵的图案作为掩模,对透明导电层进行刻蚀工艺,形成所述触控电极,使得所述黑矩阵与所述触控电极的图案相同,且所述黑矩阵与所述触控电极完全重合,其中,利用对应于触控电极的光罩,对所述黑色色阻层进行构图工艺,形成黑矩阵包括:在所述黑色色阻层之上形成光刻胶;利用对应于触控电极的光罩,对光刻胶进行曝光处理;对曝光处理后的光刻胶进行显影处理;基于显影处理后形成的光刻胶的图案,对黑色色阻层进行刻蚀工艺,形成黑矩阵。
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