[发明专利]一种曝光装置有效

专利信息
申请号: 201510590553.1 申请日: 2015-09-17
公开(公告)号: CN106547172B 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 孙晶露;何经雷 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B17/08
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种曝光装置,在光路上,沿着光束传播方向,依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面;在上述光路中,还包括像场调节机构。与现有技术相比较,本发明通过利用道威棱镜来实现对像场的旋转;由两块单片反射镜取代直角反射镜,可以分别调节像面的倾斜和焦面;在光路中放置由多个电极驱动的电活性透镜或液体镜头,可以实现镜片更复杂的面型变化,实现像质的高阶波像差调整。
搜索关键词: 一种 曝光 装置
【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,在光路上,沿着光束传播方向,依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面;在上述光路中,还包括像场调节机构,所述像场调节机构由液体镜头或电活性透镜组成,所述液体镜头或电活性透镜由多个电极驱动,通过多个所述电极分别进行驱动,以控制所述液体镜头或电活性透镜的局部面型,实现高阶的像差调整。
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