[发明专利]一种二维图形轮廓绘制方法

摘要

本发明公开了一种二维图形轮廓绘制方法，属于图像数据处理领域。所述的二维图形轮廓绘制方法主要用于绘制具有多条线段构成的封闭或未封闭二维图形轮廓的绘制，主要包括以下步骤：获取绘制所述二维图形轮廓的最大间隙值，设置一圆，并使该圆沿由所述二维图形内的线构成的边界运动，直至所述圆运动至起始点，连接所述圆运动的轨迹点完成二维图形轮廓绘制，其中，所述间隙值指所述二维图形内相邻的两条需要封闭的线段端点之间的距离，所述设置的圆的直径大于所述二维图形轮廓的最大间隙值。通过该方法绘制二维图形的内轮廓或外轮廓时，参与计算的线条数量少、计算量小，可以应用于创建区域填充封闭边界、孤岛检测等实际应用。

主权项

1.一种二维图形轮廓绘制方法，所述二维图形由多条线段及曲线组成，其特征在于：获取绘制所述二维图形轮廓的最大间隙值，设置一圆，并使该圆沿由所述二维图形内的线构成的边界运动，直至所述圆运动至起始点，连接所述圆运动的轨迹点完成二维图形轮廓绘制，其中，所述间隙值指所述二维图形内相邻的两条需要封闭的线段端点之间的距离，所述设置的圆的的直径大于所述二维图形轮廓的最大间隙值，其中，当多条存在间隙的线段共线时，且该间隙值小于所述二维图形轮廓的最大间隙值，合并所述多条线段；以及，当多条存在间隙的线段不共线时，且该间隙值小于所述二维图形轮廓的最大间隙值，所述圆自间隙一侧的线段接触到间隙另一侧的线段后，沿所述圆之后接触的线段继续运动，并且，所述圆自间隙一侧的线段接触到间隙另一侧的线段后，沿所述圆之后接触的线段继续运动时，包括确定所述圆沿接触后的最优线段运动的步骤，所述最优线段的选取包括在根据所述圆移动范围极限筛选出的二维图形内的部分线段的集合、或者整个线段集合，或者位于两者之间的任意线段集合内进行。