[发明专利]气体供给装置及具有其的光刻投影物镜

摘要

本发明公开了一种气体供给装置及具有其的光刻投影物镜，该气体供给装置包括气源及供气控制管路，供气控制管路的一端连通气源，另一端用于与物镜本体的内部腔室连通；供气控制管路包括设于管路上的热交换器、减压阀、质量流量控制器，其中，热交换器用于对工作气体进行热交换以调节温度；减压阀用于对工作气体的供气压力进行调节；质量流量控制器用于对工作气体的流量进行调节。通过对气源提供的工作气体进行处理，使得提供给物镜本体的内部腔室的工作气体的压力、流量、温度等参数稳定，其结构简单、易操作且便于维护，有效地保障了光刻投影物镜正常工作情况下环境参数稳定，且避免外部环境的污染物进入物镜本体内部以对光学系统造成污染。

主权项

一种气体供给装置，用于给光刻投影物镜的物镜本体（1）内部腔室提供工作气体，其特征在于，所述气体供给装置包括：气源（2）及供气控制管路，所述供气控制管路的一端连通所述气源（2），另一端用于与所述物镜本体（1）的内部腔室连通；所述供气控制管路包括依次连接的初级热交换器（3）、隔膜阀（4）、一级减压阀（5）、第一压力传感器（6）、过滤器（7）、二级减压阀（8）、第二压力传感器（9）、质量流量控制器（10）、纯化器（11）、泄压阀（12）、次级热交换器（13），其中，所述初级热交换器（3）连通所述气源（2）与所述隔膜阀（4），用于对所述工作气体进行热交换以粗略调节温度；所述隔膜阀（4）用于对经过初级热交换的工作气体供给进行控制；所述一级减压阀（5）用于对所述工作气体的供气压力进行粗略调节；所述第一压力传感器（6）用于对所述一级减压阀（5）调节后的压力进行测量；所述过滤器（7）用于对所述工作气体的颗粒度进行过滤控制；所述二级减压阀（8）用于对所述工作气体的供气压力进行精细调节；所述第二压力传感器（9）用于对所述二级减压阀（8）调节后的压力进行测量；所述质量流量控制器（10）用于对所述工作气体的流量进行调节；所述纯化器（11）用于对所述工作气体的纯度进行提纯控制；所述泄压阀（12）用于对所述工作气体提供过压安全保护控制；所述次级热交换器（13）的出口连通所述物镜本体（1）的内部腔室，用于对所述工作气体进行热交换以精细调节温度。