[发明专利]一种硅烷偶联剂抑弧的微弧氧化电解质溶液及微弧氧化膜制备方法

摘要

本发明公开了一种硅烷偶联剂抑弧的微弧氧化电解质溶液及微弧氧化膜制备方法，电解质溶液包括基础溶液和硅烷偶联剂；基础溶液由无机盐、氟化物和氢氧化物中的一种、两种或三种构成，基础溶液为碱性；硅烷偶联剂水解后呈中性或碱性，通式为R4‑xSi（OR′）。将镁合金基体作为阳极或阴极，不锈钢作为对电极，置于本发明电解质溶液中，进行微弧氧化处理，氧化完成后取出镁合金基体，并进行冲洗、烘干，镁合金表面即得到微弧氧化膜层。本电解质溶液能够抑制尖端放电，制备的微弧氧化膜结构可控，具有较好的耐腐蚀、耐磨性能；且可根据表面复合涂层的要求，制备具有优异相容性能的微弧氧化过渡层。

主权项

一种含有硅烷偶联剂的微弧氧化电解质溶液在抑弧上的应用，其特征在于：所述微弧氧化电解质溶液包括基础溶液，在基础溶液中添加有硅烷偶联剂；其中基础溶液由无机盐、氟化物和氢氧化物中的一种、任意两种或三种构成，基础溶液为碱性；所述硅烷偶联剂为氨基硅烷，硅烷偶联剂浓度为0.1‑50 ml/L。