[发明专利]一种适用于低化学处理光敏CTP版材的显影液在审

专利信息
申请号: 201510602335.5 申请日: 2015-09-21
公开(公告)号: CN106547176A 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 郭伟锋;李旭东;王晓平;王泳;刘晓霞;孙伟涛;李永艳;李乐;马天如;张学萍 申请(专利权)人: 乐凯华光印刷科技有限公司
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司41109 代理人: 霍彦伟
地址: 473003 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种适用于低化学处理光敏CTP版材的显影液,主要由碱性化合物、缓冲体系、表面活性剂、螯合剂、絮凝剂体系和溶剂组成,絮凝剂体系由阴离子型淀粉衍生物絮凝剂和非离子型淀粉衍生物絮凝剂组成。由阴离子型淀粉衍生物絮凝剂和非离子型淀粉衍生物絮凝剂组成的复合絮凝体系制备的显影液具有良好的成膜性能,显著提高了显影液的显影容量,同时对显影后的印版版面进行保护,防止印刷开机上脏。
搜索关键词: 一种 适用于 化学 处理 光敏 ctp 显影液
【主权项】:
一种适用于低化学处理光敏CTP版材的显影液,主要由碱性化合物、缓冲体系、表面活性剂、螯合剂、絮凝剂体系和溶剂组成,其特征在于:絮凝剂体系由阴离子型淀粉衍生物絮凝剂和非离子型淀粉衍生物絮凝剂组成。
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