[发明专利]一种电场和磁场共同调控的多阻态忆阻器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510602812.8 申请日: 2015-09-21
公开(公告)号: CN105161616B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 李小丽;贾娟;李洁;李燕春;许小红 申请(专利权)人: 山西师范大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 041000 山西省临汾*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电场和磁场共同调控的多阻态忆阻器及其制备方法,包括基片和沉积于基片上的颗粒膜阻变功能层和顶电极构成,所述的基片为Pt/Ti/SiO2/Si基片,所述的沉积于基片上的颗粒膜阻变功能层为ZnO/ZnO‑Co,所述的顶电极为Pt或Au。本发明的有益效果在于本发明设计并制备了ZnO/ZnO‑Co复合阻变功能膜,并在以此为基础的Pt/ZnO/ZnO‑Co/Pt器件中同时发现了电致阻变效应和磁电阻效应两种重要性质。当在顶电极上加一定正电压时,器件由高阻态转变为低阻态,继而在顶电极上加一定负电压时,器件由低阻态变为高阻态。不论该器件处于高阻态还是低阻态,其在外加磁场下,均显示室温MR效应,因此,通过电场和磁场的共同调控可以实现四个电阻态,该器件可用于多态存储器。
搜索关键词: 一种 电场 磁场 共同 调控 多阻态忆阻器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种电场和磁场共同调控的多阻态忆阻器,其特征在于:包括基片和沉积于基片上的颗粒膜阻变功能层和顶电极,所述的基片为Pt/Ti/SiO2/Si基片,其中基片上的Pt层作为底电极,所述的沉积于基片上的颗粒膜阻变功能层为ZnO/ZnO‑Co,所述的顶电极为Pt或Au,颗粒膜阻变功能层使用磁控溅射方法沉积于基片上,其中ZnO‑Co颗粒膜是通过交替沉积Co层和ZnO层获得,Co层和ZnO层体积比为3:2至3:10。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西师范大学,未经山西师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510602812.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top