[发明专利]半导体器件及制造其的方法有效

专利信息
申请号: 201510603178.X 申请日: 2015-09-21
公开(公告)号: CN106024790B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 郭尚炫 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11582;H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 俞波;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件可以包括:衬底,提供在外围区;第一绝缘柱和第二绝缘柱,形成在衬底中;以及栅电极,沿第一方向从第一绝缘柱之上延伸至第二绝缘柱之上;其中,栅电极包括第一刻蚀停止图案和第二刻蚀停止图案,其中,第一刻蚀停止图案沿第一方向从栅电极内部延伸至第一绝缘柱之上,以及其中,第二刻蚀停止图案沿第一方向从栅电极内部延伸至第二绝缘柱之上。
搜索关键词: 半导体器件 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,包括:衬底,包括在其中限定有源区的高压晶体管区;绝缘柱,彼此分离并且形成在有源区中;栅电极,布置在衬底之上,其中栅电极的两端分别与绝缘柱重叠;以及刻蚀停止图案,掩埋在栅电极中并且分别与绝缘柱重叠。
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