[发明专利]一种电流检测装置及介质膜蚀刻装置有效
申请号: | 201510608900.9 | 申请日: | 2015-09-22 |
公开(公告)号: | CN105185680B | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 汤介峰;季高明;吕煜坤;朱骏;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01J37/244 | 分类号: | H01J37/244;H01J37/32 |
代理公司: | 上海申新律师事务所31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体器件制造技术领域,具体涉及一种电流检测装置及介质膜蚀刻装置,通过检测单元检测所述驱动电流信号,一方面可以判断磁场驱动装置是否出现故障,另一方面可以判断控制电流、和/或驱动电流信号是否匹配标准电流信号。仅仅只有在驱动电流信号匹配标准电流状态下,保证介质膜蚀刻装置内部产生的磁场处于均匀状态,通过均匀磁场对晶圆表面进行刻蚀,有利于提高晶圆的刻蚀均匀率,同时提高产品的成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 电流 检测 装置 介质 蚀刻 | ||
【主权项】:
一种电流检测装置,应用于介质膜蚀刻装置,其特征在于,包括:控制单元,用于输出一控制电流信号;磁场驱动装置,用以接收所述控制电流信号,根据所述控制电流信号形成磁场驱动电流信号并输出;检测单元,用以分别接收所述控制电流信号、所述驱动电流信号,并根据所述控制电流信号形成一第一检测信号输出;根据所述驱动电流信号形成一第二检测信号输出;判断单元,预制有标准电流信号,分别接收所述第一检测信号和所述第二检测信号,根据所述标准电流信号结合所述第一检测信号和所述第二检测信号形成一判断结果输出;报警单元,用以于所述判断结果的作用下执行相应的动作。
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