[发明专利]一种电流检测装置及介质膜蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 201510608900.9 申请日: 2015-09-22
公开(公告)号: CN105185680B 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 汤介峰;季高明;吕煜坤;朱骏;张旭升 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/32
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种半导体器件制造技术领域,具体涉及一种电流检测装置及介质膜蚀刻装置,通过检测单元检测所述驱动电流信号,一方面可以判断磁场驱动装置是否出现故障,另一方面可以判断控制电流、和/或驱动电流信号是否匹配标准电流信号。仅仅只有在驱动电流信号匹配标准电流状态下,保证介质膜蚀刻装置内部产生的磁场处于均匀状态,通过均匀磁场对晶圆表面进行刻蚀,有利于提高晶圆的刻蚀均匀率,同时提高产品的成品率。
搜索关键词: 一种 电流 检测 装置 介质 蚀刻
【主权项】:
一种电流检测装置,应用于介质膜蚀刻装置,其特征在于,包括:控制单元,用于输出一控制电流信号;磁场驱动装置,用以接收所述控制电流信号,根据所述控制电流信号形成磁场驱动电流信号并输出;检测单元,用以分别接收所述控制电流信号、所述驱动电流信号,并根据所述控制电流信号形成一第一检测信号输出;根据所述驱动电流信号形成一第二检测信号输出;判断单元,预制有标准电流信号,分别接收所述第一检测信号和所述第二检测信号,根据所述标准电流信号结合所述第一检测信号和所述第二检测信号形成一判断结果输出;报警单元,用以于所述判断结果的作用下执行相应的动作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510608900.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top