[发明专利]反应腔室以及半导体加工设备

摘要

本发明提供的反应腔室以及半导体加工设备，其包括工艺组件和设置在该工艺组件顶部的上电极，且在上电极与工艺组件之间还设置有用于隔绝二者的绝缘环，在工艺组件上，且位于绝缘环的周围设置有阻挡件，该阻挡件包括与绝缘环的外周壁相贴合的摩擦面，用于在上电极脱离工艺组件时，与绝缘环的外周壁之间产生可阻碍二者相对运动的摩擦力。本发明提供的反应腔室，其可以在开启上电极时，避免绝缘环随之一起脱离工艺组件，从而可以保护绝缘环。

主权项

1.一种反应腔室，包括工艺组件和设置在所述工艺组件顶部的上电极，且在所述上电极与所述工艺组件之间还设置有用于隔绝二者的绝缘环，其特征在于，在所述工艺组件上，且位于所述绝缘环的周围设置有阻挡件，所述阻挡件包括与所述绝缘环的外周壁相贴合的摩擦面，用于在所述上电极脱离所述工艺组件时，与所述绝缘环的外周壁之间产生可阻碍二者相对运动的摩擦力；其中，/n在所述阻挡件上还设置有凸缘，所述凸缘位于所述绝缘环的上方，且与所述绝缘环相重叠，并且所述凸缘与所述绝缘环之间具有竖直间距；并且，/n在所述阻挡件上间隔设置有两个条形通孔，且在每个条形通孔内设置有紧固螺钉；/n所述紧固螺钉在旋松时，可相对于所述工艺组件沿所述条形通孔相对移动，以使所述凸缘移动至与所述绝缘环相重叠的第一位置，或者与所述绝缘环不相重叠的第二位置；/n所述紧固螺钉在旋紧时，使所述阻挡件相对于所述工艺组件固定不动。/n