[发明专利]一种曝光装置及曝光方法

摘要

本发明公开了一种曝光装置及曝光方法，涉及基板制造技术领域，为解决基板曝光用时长、曝光效率低的问题。所述曝光装置包括具有掩膜图案的掩膜板，曝光时掩膜板设置在待曝光的基板的用于形成图案的表面的一侧；位于基板与掩膜板之间的平行光调节组件，该平行光调节组件用于增大透过掩膜板覆盖到基板上的曝光光线的面积。所述曝光方法包括将待曝光的基板放置在掩膜板及平行光调节组件的透过曝光光线的一侧；调节掩膜板、平行光调节组件或基板的位置，使透过掩膜板和平行光调节组件而面积增大的曝光光线覆盖到待曝光的基板上。本发明提供的曝光装置应用于对基板的曝光。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，包括：具有掩膜图案的掩膜板，曝光时所述掩膜板设置在待曝光的基板的用于形成图案的表面的一侧；位于所述基板与掩膜板之间的平行光调节组件，所述平行光调节组件用于增大透过掩膜板覆盖到基板上的曝光光线的面积；所述平行光调节组件包括凹透镜、凸透镜以及用于安装凹透镜和凸透镜的托架，从所述掩膜板至基板，依次设置凹透镜和凸透镜，且凹透镜与凸透镜的主光轴、焦点均相互重合；所述掩膜板的法线与所述平行光调节组件的轴线相平行。