[发明专利]一种偏光片及其构造方法在审
| 申请号： | 201510618073.1 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN105137521A | 公开（公告）日： | 2015-12-09 |
| 发明（设计）人： | 孙海雁;杨宗颖 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 张文娟;朱绘 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种偏光片及其构造方法。本发明的偏光片包括上支撑层、下支撑层以及位于所述上支撑层和所述下支撑层之间的偏光层，其中：所述上支撑层或所述下支撑层被拉伸从而具有1/2λ的相位差，λ为波长；所述上支撑层或所述下支撑层被拉伸的方向为与所述偏光片吸收轴向垂直的方向。与现有技术相比，本发明的偏光片可以有效解决偏光片的翘曲问题；本发明的偏光片在实现偏光片正常功能的前提下，既没有增加偏光片的厚度也没有降低偏光片的穿透率；进一步的，本发明的偏光片构造方法不需要改变现有偏光片的制程以及成本，因而具有较高的推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏光 及其 构造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏光片，其特征在于，所述偏光片包括上支撑层、下支撑层以及位于所述上支撑层和所述下支撑层之间的偏光层，其中：所述上支撑层或所述下支撑层被拉伸从而具有1/2λ的相位差，λ为波长；所述上支撑层或所述下支撑层被拉伸的方向为与所述偏光片吸收轴向垂直的方向。
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