[发明专利]一种半导体设备中加热基底升降重复性验证工装及验证方法在审
申请号: | 201510623723.1 | 申请日: | 2015-09-25 |
公开(公告)号: | CN106558515A | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 吕光泉;苏欣;吴凤丽 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)21229 | 代理人: | 甄玉荃,霍光旭 |
地址: | 110179 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 半导体设备中加热基底升降重复性验证工装,主要解决现有技术加热基底受机加零件加工精度影响而导致的升降高度的重复性不理想的问题。该验证工装采用整块材料去除材料的方式,使圆形厚板材料形成边缘带外沿的凹台,在凹台底部板材上开口,开口之间的板材上均匀设置千分表。用机加工形位公差要求限制圆形厚板材料边缘的外沿下表面与凹台底部上表面的平行度。本发明以验证加热基底升降重复性、验证加热基底升降机构中机加零件的加工精度及电动滑台或伺服电机的性能和质量。并确认加热基底组件性能是否达标为目的,确保半导体设备出厂前加热基底升降机构合格。使用简单结构验证由多个零部件安装,配合组成的加热基底运动机构的升降可重复性。在设备出厂前,确保加热基底升降结构的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体设备 加热 基底 升降 重复性 验证 工装 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体设备中加热基底升降重复性验证工装,其特征在于:该验证工装的结构采用整块材料去除材料的方式,使圆形厚板材料形成边缘带外沿的凹台,在凹台底部板材料上,规律地开设若干开口,若干开口之间的板材料上均匀设置若干千分表。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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