[发明专利]低本底实验室屏蔽结构在审
| 申请号： | 201510631383.7 | 申请日： | 2015-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN106340335A | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 罗晓渭;李小明;郭俊;郭朝选;张铻 | 申请（专利权）人： | 中国辐射防护研究院 |
| 主分类号： | G21F7/00 | 分类号： | G21F7/00;G21F3/00;G21F1/04;G21F1/12 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙)11311 | 代理人： | 田明,任晓航 |
| 地址： | 030006 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明属于辐射防护设施，具体涉及一种用于构建大空间环境的低本底实验室屏蔽结构，包括采用混凝土浇筑形成的外层屏蔽结构，以及由至少两层金属屏蔽层组合而成的内层屏蔽结构，所述的内层屏蔽结构的相邻金属屏蔽层之间设有支撑骨架，形成空腔，在所述空腔内能够填充粉末状屏蔽材料。本发明能够降低实验室周围环境中放射性对本底的影响，极大降低实验室自然本底，有效地提高探测器灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 本底 实验室 屏蔽 结构 | ||
【主权项】：
一种低本底实验室屏蔽结构，其特征在于：包括采用混凝土浇筑形成的外层屏蔽结构(1)，以及由至少两层金属屏蔽层组合而成的内层屏蔽结构，所述的内层屏蔽结构的相邻金属屏蔽层(2、3)之间设有支撑骨架(4)，形成空腔，在所述空腔内能够填充粉末状屏蔽材料。
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