[发明专利]测试样品及其制备方法在审
申请号: | 201510631732.5 | 申请日: | 2015-09-29 |
公开(公告)号: | CN106556721A | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 于倩倩 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G01Q30/20 | 分类号: | G01Q30/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 高静,吴敏 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种测试样品及其制备方法,其中测试样品的制备方法包括形成基底,所述基底中形成有开口,所述开口侧壁上形成有多个悬空结构;在开口中形成支撑层,所述支撑层覆盖所述开口底部且与多个所述悬空结构相接触。本发明通过在基底内的开口中形成支撑层,所述支撑层覆盖所述开口底部且与多个所述悬空结构相接触。所述支撑层能够填充所述悬空结构与所述开口底部之间的空隙,能够支撑悬空结构以保护所述悬空结构,从而减小所述悬空结构在后续工艺中受损的可能,起到保护所述悬空结构的功能。 | ||
搜索关键词: | 测试 样品 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种测试样品的制备方法,其特征在于,包括:形成基底,所述基底中形成有开口,所述开口侧壁上形成有多个悬空结构;在开口中形成支撑层,所述支撑层覆盖所述开口底部且与多个所述悬空结构相接触。
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