[发明专利]一种液相化学去除光纤涂覆层的方法和装置在审
| 申请号： | 201510638835.4 | 申请日： | 2015-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN105182467A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 于海霞 | 申请（专利权）人： | 匠研光学科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 马辉 |
| 地址： | 上海市浦东新区万祥镇宏祥*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光纤涂覆层去除方法和装置，包括容器以及位于容器中的双层或三层液体结构；处于双层或三层液体结构中底层保护液体之上的腐蚀液体层中的光纤涂覆层被腐蚀去除光纤涂覆层，实现中段去除光纤涂覆层的目的。腐蚀液体层的厚度决定了光纤涂覆层中段去除窗口的长度，改变腐蚀液体层的厚度，可以方便地获得长短不同的光纤涂覆层中段去除窗口长度，腐蚀液体层的厚度理论上可以小于1mm。短的中段去除窗口长度光纤在金属化光纤的气密封装中有广泛应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 去除 光纤 覆层 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种光纤涂覆层去除方法的装置，它包括容器以及位于容器中的双层液体结构，其特征是：所述的双层液体结构为处于底层的保护液体和处于上层的腐蚀液体双层结构；所述保护液体密度大于所述腐蚀液体，且相互不发生溶解；所述保护液体不与光纤发生化学反应，也不溶解或溶胀光纤；所述腐蚀液体能够与光纤涂覆层发生化学反应，或者溶解或溶胀光纤涂覆层，但不与光纤的包层发生化学反应。
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