[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201510642893.4 | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN105511165B | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 今西泰雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;王大方 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种低余像且视角特性及显示对比度提高的高品质液晶显示装置。该液晶显示装置的特征在于，具有：具备像素电极和TFT且在像素上方形成有取向膜的TFT基板、和与所述TFT基板相对配置且在所述TFT基板侧的最外表面上形成有取向膜的对置基板，在所述TFT基板的取向膜与所述对置基板的取向膜之间夹持有液晶，所述取向膜是能够通过偏振光照射而赋予液晶取向限制力的材料，所述光取向膜的最外表面层具有液晶取向限制力，并且在所述光取向膜中几乎不存在光学各向异性。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液晶显示装置，其特征在于，具有：具备像素电极和TFT且形成有取向膜的TFT基板、和与所述TFT基板相对配置且在所述TFT基板侧形成有取向膜的对置基板，在所述TFT基板的取向膜与所述对置基板的取向膜之间夹持有液晶，所述取向膜通过偏振光照射而被赋予液晶取向限制力，所述取向膜的最外表面层具有液晶取向限制力，并且所述取向膜的光学各向异性以延迟值计小于1.0nm，在所述取向膜，从所述取向膜的从与液晶相接触的表面起的所述取向膜的膜厚的一半以下的范围，形成氧原子比例高的层。
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