[发明专利]一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法有效
| 申请号： | 201510643845.7 | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN105123027B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 方敏彦;章明;杨鹤同;管斌;王红梅;丁久玲;席刚俊;刘进华;李园莉;高小慧 | 申请（专利权）人： | 江苏农林职业技术学院 |
| 主分类号： | A01C1/00 | 分类号： | A01C1/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 肖明芳 |
| 地址： | 212400 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法，该方法是通过先对日本矮生沿阶草种子进行低温层积处理，然后用H2O2溶液或K2MnO4溶液中浸泡，再在赤霉素溶液中浸泡，然后将处理后的种胚在25℃恒温培养箱中14h/d光照下培养10～15天。利用H2O2溶液、K2MnO4溶液、赤霉素溶液对日本矮生沿阶草种子浸种处理，将日本矮生沿阶草种子的发芽率提高到80％～98％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 日本 矮生沿阶草 种子 发芽率 方法 | ||
【主权项】：
一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：(1)对日本矮生沿阶草种子进行低温层积处理；(2)取出日本矮生沿阶草种子，去除种皮得到种胚，将种胚洗净，再晒干；(3)将种胚置于体积分数为1％～5％H2O2溶液或质量分数为0.2％～0.3％K2MnO4溶液中浸泡6～8h，再于150～200mg/L的赤霉素溶液中浸泡10～12h；(4)将步骤(3)处理过的种胚置于培养皿的基质上，并放置在25℃恒温培养箱中，在14h/d光照下培养，培养过程中保持基质湿润；步骤(1)中，所述的低温层积处理，是将日本矮生沿阶草种子置于盛有经消毒处理的细沙中，在为4℃的条件下层积25～30天。
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