[发明专利]一种地铁车站主体结构及其四联拱PBA暗挖施工方法

摘要

本发明公开了一种地铁车站主体结构及其四联拱PBA暗挖施工方法，其地铁车站主体结构包括车站内部主体结构、多根左边桩、多根右边桩、三组中柱、中板和主体拱部，主体拱部为四联拱；其施工方法包括步骤：导洞开挖及初期支护；水平基础及底纵梁施工；边桩及中柱施工；冠梁、顶纵梁与导洞内拱段施工；第一与第三拱段初支扣拱施工；第二与第四拱段初支扣拱施工；第一与第三拱段二次衬砌结构施工；第二与第四拱段二次衬砌结构施工；车站内部主体结构上部开挖及中纵梁、中板与侧墙上部二次衬砌施工；车站内部主体结构下部土方开挖及底板与侧墙下部二次衬砌施工。本发明施工简便，施工进度快，施工成型的地铁车站主体结构稳固且使用效果好。

主权项

一种地铁车站主体结构，其特征在于：包括开挖形成的车站内部主体结构、多根由前至后布设在所述车站内部主体结构左侧的左边桩(1)、多根由前至后布设在所述车站内部主体结构右侧的右边桩(2)、三组由左至右布设于所述车站内部主体结构内部的中柱、搭设在所述车站内部主体结构中部且呈水平向布设的中板(3)和布设在所述车站内部主体结构正上方的主体拱部，三组所述中柱均位于左边桩(1)和右边桩(2)之间且每组所述中柱均包括多根沿所述车站内部主体结构的纵向长度方向由前至后布设的所述中柱，三组所述中柱由左至右分别为第一中柱(4)、第二中柱(5)和第三中柱(6)；所述左边桩(1)、右边桩(2)、第一中柱(4)、第二中柱(5)和第三中柱(6)均呈竖直向布设；所述车站内部主体结构底部由左至右设置有第一底纵梁(7‑1)、第二底纵梁(7‑2)和第三底纵梁(7‑3)，所述车站内部主体结构顶部由左至右设置有第一顶纵梁(8‑1)、第二顶纵梁(8‑2)和第三顶纵梁(8‑3)，所述第一顶纵梁(8‑1)、第二顶纵梁(8‑2)和第三顶纵梁(8‑3)分别位于第一底纵梁(7‑1)、第二底纵梁(7‑2)和第三底纵梁(7‑3)的正上方，所述第一底纵梁(7‑1)、第二底纵梁(7‑2)、第三底纵梁(7‑3)、第一顶纵梁(8‑1)、第二顶纵梁(8‑2)和第三顶纵梁(8‑3)均沿所述车站内部主体结构的纵向长度方向布设，多根所述第一中柱(4)均支撑于第一底纵梁(7‑1)与第一顶纵梁(8‑1)之间，多根所述第二中柱(5)均支撑于第二底纵梁(7‑2)与第二顶纵梁(8‑2)之间，多根所述第三中柱(6)均支撑于第三底纵梁(7‑3)与第三顶纵梁(8‑3)之间；每组所述中柱中前后相邻两根所述中柱的中部之间均设置有一根沿所述车站内部主体结构的纵向长度方向布设的中纵梁；所述中板(3)搭设于三组所述中柱的中部，所述中板(3)左侧支撑在多根所述左边桩(1)上且其右侧支撑在多根所述右边桩(2)上，所述中板(3)支撑在所述中纵梁上；所述车站内部主体结构的底板和侧墙上均设置有车站主体结构二次衬砌结构(9)；所述主体拱部的左右两侧拱脚分别支撑在左侧冠梁(10)和右侧冠梁(11)上，所述左侧冠梁(10)和右侧冠梁(11)呈平行布设，所述左侧冠梁(10)支撑于多根所述左边桩(1)顶部，且右侧冠梁(11)支撑于多根所述右边桩(2)顶部；所述主体拱部为四联拱且其由第一拱段(12)、第二拱段(13)、第三拱段(14)和第四拱段(15)从左至右连接而成，所述第一拱段(12)支撑于左侧冠梁(10)与第一顶纵梁(8‑1)之间，所述第二拱段(13)支撑于第一顶纵梁(8‑1)与第二顶纵梁(8‑2)之间，所述第三拱段(14)支撑于第二顶纵梁(8‑2)与第三顶纵梁(8‑3)之间，所述第四拱段(15)支撑于第三顶纵梁(8‑3)与右侧冠梁(11)之间；所述第一拱段(12)、第二拱段(13)、第三拱段(14)和第四拱段(15)的结构相同且其均包括初支扣拱(18)和布设在初支扣拱(18)下方的扣拱二次衬砌结构(19)，所述车站主体结构二次衬砌结构(9)与所述主体拱部的扣拱二次衬砌结构(19)连接组成一个整体式二次衬砌结构；所述左侧冠梁(10)布设于预先开挖形成的上部第一导洞(16‑1)的外侧边墙底部，所述右侧冠梁(11)布设于预先开挖形成的上部第五导洞(16‑5)的外侧边墙底部，所述第一顶纵梁(8‑1)、第二顶纵梁(8‑2)和第三顶纵梁(8‑3)分别布设于预先开挖形成的上部第二导洞(16‑2)、上部第三导洞(16‑3)和上部第四导洞(16‑4)的内侧上部，所述第一底纵梁(7‑1)、第二底纵梁(7‑2)和第三底纵梁(7‑3)分别布设于预先开挖形成的下部第二导洞(17‑2)、下部第三导洞(17‑3)和下部第四导洞(17‑4)的内侧下部，多根所述左边桩(1)的底部均支撑于第一水平基础(18‑1)上，多根所述右边桩(2)的底部均支撑于第五水平基础(18‑5)上，所述第一水平基础(18‑1)和第五水平基础(18‑5)均沿所述车站内部主体结构的纵向长度方向布设，所述第一水平基础(18‑1)位于预先开挖形成的下部第一导洞(17‑1)的内侧底部，所述第五水平基础(18‑5)位于预先开挖形成的下部第五导洞(17‑5)的内侧底部。