[发明专利]一种浅槽机械密封在审
| 申请号： | 201510649797.2 | 申请日： | 2015-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN105202190A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 霍凤伟 | 申请（专利权）人： | 霍凤伟 |
| 主分类号： | F16J15/16 | 分类号： | F16J15/16;F16J15/40 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 116033 辽宁省大连*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浅槽机械密封，其特征是在动环的密封端面上，或者在静环的密封端面上设有浅槽，浅槽的底面是曲面，该曲面是由一圆周在密封环上按运动规律运动时所形成的光滑连续曲面，曲面的最低点在密封端面内周边和外周边之内，该浅槽在密封端面的外周边和内周边都没有开口，或者开口于密封端面的外周边，或者开口于密封端面的内周边。与浅槽开口于密封端面周边，且平底等深的或浅槽最低点位于密封端面周边上的浅槽机械密封相比，具有更小的泄漏率和更优良的防止固体颗粒进入密封间隙的能力。与多孔端面密封相比，流体动压效应更强，耐压能力更高，寿命更长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机械 密封 | ||
【主权项】：
一种浅槽机械密封，包括动环和静环，在动环的密封端面上，或者在静环的密封端面上设有浅槽，浅槽的底面是曲面，工作时两个密封环的密封端面近乎贴合，间隙中有密封介质，转动轴带动动环相对于静环转动，密封介质通过两密封端面间的间隙泄漏，其特征在于：所述的曲面是由一圆周在密封环上按运动规律运动时所形成的光滑连续曲面，所述的曲面的最低点在密封端面内周边和外周边之内。
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