[发明专利]包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致抗蚀剂组合物和电子装置形成方法

摘要

聚合物包括重复单元，所述重复单元中的大部分是光酸产生重复单元。所述光酸产生重复单元中的每一个包括光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。所述光酸产生重复单元中的每一个包含阴离子和光酸产生阳离子，所述阴离子和所述光酸产生阳离子全体地具有结构(I)其中q、r、R¹、m、X和Z^‑是如本文中所定义。所述聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分，所述光致抗蚀剂组合物进一步包括在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化的第二聚合物。

主权项

1.一种聚合物，其包含以全部重复单元的100摩尔%计50到100摩尔%的光酸产生重复单元；其中所述光酸产生重复单元中的每一个包含阴离子、光酸产生阳离子和碱溶解度增强官能团；其中所述阴离子或所述光酸产生阳离子是聚合物结合的；其中所述碱溶解度增强官能团选自由以下各者组成的群组：叔羧酸酯、其中仲碳经至少一个未被取代或被取代的C_6‑40芳基取代的仲羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α‑氟化酯、β‑氟化酯、α,β‑氟化酯、聚亚烷基二醇、α‑氟化醇和其组合；且其中所述光酸产生重复单元中的每一个独立地具有结构（II）或（III）其中q在每一光酸产生重复单元中独立地为0、1、2、3、4或5；r在每一光酸产生重复单元中在每次出现时独立地为0、1、2、3或4；条件是q和r不同时为0；R¹在每一光酸产生重复单元中在每次出现时独立地为卤素、未被取代或被取代的C_1‑40烃基或未被取代或被取代的C_1‑40亚烃基；条件是R¹的至少一次出现包括碱溶解度增强官能团，且R¹的至少一次出现中的碱溶解度增强官能团包括选自由以下各者组成的群组的两个官能团：叔羧酸酯、其中仲碳经至少一个未被取代或被取代的C_6‑40芳基取代的仲羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α‑氟化酯、β‑氟化酯、α,β‑氟化酯、聚亚烷基二醇、α‑氟化醇和其组合；R³在所述重复单元中的每一个中独立地为H、F、‑CN、C_1‑10烷基或C_1‑10氟烷基；m在每一光酸产生重复单元中独立地为0或1；n在所述重复单元中的每一个中独立地为0或1；L¹和L³在所述重复单元中的每一个中各自独立地是未被取代或被取代的C_1‑20亚烃基，其中所述被取代的C_1‑20亚烃基任选地包含一个或多个链中含二价杂原子的基团，所述链中含二价杂原子的基团为‑O‑、‑S‑、‑NR⁴、‑PR⁴‑、‑C(O)‑、‑OC(O)‑、‑OC(O)O‑、‑N(R⁴)C(O)‑、‑C(O)N(R⁴)‑、‑OC(O)N(R⁴)‑、‑N(R⁴)C(O)O‑、‑S(O)‑、‑S(O)₂‑、‑N(R⁴)S(O)₂‑、‑S(O)₂N(R⁴)‑、‑OS(O)₂‑或‑S(O)₂O‑，其中R⁴是H或C_1‑12烃基；L²在所述重复单元中的每一个中独立地为‑O‑、‑C(O)‑或‑N(R⁵)‑，其中R⁵是H或C_1‑12烃基；且X在每一光酸产生重复单元中独立地为单键、‑O‑、‑S‑、‑C(=O)‑、‑C(R²)₂‑、‑C(R²)(OH)‑、‑C(=O)O‑、‑C(=O)N(R²)‑、‑C(=O)C(=O)‑、‑S(=O)‑或‑S(=O)₂‑，其中R²在每次出现时独立地为氢或C_1‑12烃基。