[发明专利]泡沫镍自反应制备二氧化锰/氢氧化镍复合纳米片的方法及其超级电容器应用有效
| 申请号： | 201510658588.4 | 申请日： | 2015-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN105304352B | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 于杰;任中华 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | H01G11/46 | 分类号： | H01G11/46;H01G11/30;H01G11/86;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 韩英杰 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明专利涉及泡沫镍自反应制备二氧化锰/氢氧化镍复合纳米片的方法及其作为超级电容器电极材料的应用。本方法利用泡沫镍与高锰酸钾溶液直接反应获得二氧化锰和氢氧化镍的复合纳米片，在此反应中泡沫镍将高锰酸钾还原成二氧化锰，同时自身本被氧化成氢氧化镍，得到一种复合纳米片。这些纳米片垂直生长在泡沫镍的表面形成一层均匀的薄膜。在此反应中，泡沫镍同时作为还原剂和集流体，电极制备可一步完成。该方法工艺简单，成本低廉，可大面积制备，获得的复合电极材料具有很高的比电容和优越的循环稳定性，有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 泡沫镍 复合纳米片 二氧化锰 氢氧化镍 制备 自反应 高锰酸钾 超级电容器电极 应用 复合电极材料 高锰酸钾溶液 超级电容器 成氢氧化镍 循环稳定性 表面形成 垂直生长 电极制备 一步完成 直接反应 比电容 还原剂 集流体 纳米片 中泡沫 薄膜 还原 | ||
【主权项】：
1.泡沫镍自反应制备二氧化锰/氢氧化镍复合纳米片的方法，其特征在于，常温下将泡沫镍在高锰酸钾溶液中浸泡一定时间，所述的高锰酸钾溶液浓度为0.005‑0.2mol·L‑1，利用泡沫镍与溶液中的高锰酸钾发生的氧化还原反应，所述的反应时间为12‑48h，所述的反应温度为20‑30℃，即可在泡沫镍上生成一层二氧化锰/氢氧化镍复合纳米片，所述二氧化锰/氢氧化镍复合纳米片厚度为2‑7nm，纳米片组成的多孔结构尺寸小于50nm。
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