[发明专利]薄膜晶体管及其制备方法在审
申请号: | 201510661910.9 | 申请日: | 2015-10-14 |
公开(公告)号: | CN105140299A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 徐晓娜 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/423 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法,属于薄膜晶体管技术领域,其可解决现有的双栅或浮栅结构的薄膜晶体管结构复杂、制备工艺麻烦的问题。本发明的薄膜晶体管包括:有源区;栅极和栅绝缘层,所述栅极和栅绝缘层设于有源区上下两侧中的一侧;设于所述有源区上下两侧中另一侧的浮栅层,所述浮栅层包括量子点。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:有源区;栅极和栅绝缘层,所述栅极和栅绝缘层设于有源区上下两侧中的一侧;设于所述有源区上下两侧中另一侧的浮栅层,所述浮栅层包括量子点。
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