[发明专利]在芯片设计布局中发现未知问题图案的系统与方法

摘要

本发明揭露了一种系统，其包括在半导体制程的芯片设计布局中用于储存关键特征数据库的关键特征资料库；一统计模型创建器，基于储存在关键特征数据库中的问题电路图案，并且基于与已知问题电路图案相关的实体测量值及仿真数据或设计数据之间的偏差所获得的目标规格创建统计模型。该系统进一步包括一基于统计模型的预测器，其藉由将统计模型应用于大量由随机布局产生器所产生的候选电路图案，或者，基于藉由延伸芯片设计布局的微影制程检测所判定的重要点区域从芯片设计布局中所撷取出来的候选电路图案，或者，藉由利用强烈敏感度设定对已制造芯片设计布局的晶圆进行检测所获得的候选电路图案，来预测并且发现未知问题电路图案。

主权项

1.一种用来发现在半导体元件的芯片设计布局中的未知问题电路图案的系统，其特征在于，该系统包括：由配置一储存装置所构成的一关键特征资料库，所述的关键特征资料库具有储存在该储存装置中的至少一个关键特征数据库，各个该关键特征数据库包括从该芯片设计布局中所撷取出的多个已知问题电路图案，各个该问题电路图案中具有从已制造的半导体元件上测得的相关实体数据以及基于该芯片设计布局所产生的仿真数据；一统计模型创建器，与该关键特征资料库介接，并且根据基于该相关实体数据与该仿真数据或设计数据之间的偏差的一目标规格创建基于所述已知问题电路图案的至少一统计模型，该至少一统计模型被储存在具有所述已知问题电路图案的对应关键特征数据库中；以及一基于统计模型的预测器，与该关键特征资料库介接，用于接收多个候选电路图案，并且根据该至少一统计模型预测并且将各个所述候选电路图案分别标记为有问题或没有问题的电路图案；其中，如果被标记为有问题的该候选电路图案与对应的该关键特征数据库中的任何一个所述已知问题电路图案皆不相符，该基于统计模型的预测器进一步将各个被标记为有问题的该候选电路图案储存在对应的该关键特征数据库中。