[发明专利]蒸镀设备和蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201510666908.0 申请日: 2015-10-15
公开(公告)号: CN105154832B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 张鑫狄;孙俊民 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 鞠永善
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是关于一种蒸镀设备和蒸镀方法,属于镀膜技术领域。蒸镀设备包括:镀膜腔室和至少一个蒸发源腔室,镀膜腔室中设置有基片放置组件,第一蒸发源腔室中设置有蒸发源放置组件,蒸发源放置组件用于放置蒸发源,第一蒸发源腔室为至少一个蒸发源腔室中任一蒸发源腔室;镀膜腔室和第一蒸发源腔室之间设置有密封组件,密封组件打开时,镀膜腔室和第一蒸发源腔室连通,密封组件关闭时,镀膜腔室和第一蒸发源腔室隔断。本发明通过设置至少一个用于放置蒸发源的蒸发源腔室,且通过密封组件可以连通或隔断蒸发源腔室和镀膜腔室,解决了相关技术中,更换基片时空气会对蒸发源造成污染的问题;达到了避免空气污染蒸发源的效果。
搜索关键词: 蒸发源 腔室 镀膜腔室 密封组件 放置组件 蒸镀设备 隔断 蒸镀 连通 镀膜技术 空气污染 污染
【主权项】:
一种蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备包括:镀膜腔室和至少一个蒸发源腔室,所述镀膜腔室中设置有基片放置组件,所述基片放置组件用于放置基片,第一蒸发源腔室中设置有蒸发源放置组件,所述蒸发源放置组件用于放置蒸发源,所述第一蒸发源腔室为所述至少一个蒸发源腔室中任一蒸发源腔室;所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室之间设置有密封组件,所述密封组件打开时,所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室连通,所述密封组件关闭时,所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室隔断;所述第一蒸发源腔室中还设置有蒸发源移动组件,所述蒸发源移动组件与所述蒸发源放置组件连接,且能够在所述密封组件打开时,带动所述蒸发源放置组件移动到所述镀膜腔室中;所述镀膜腔室中还设置有基片移动组件,所述基片移动组件与所述基片放置组件连接,且能够在所述密封组件打开时,带动所述基片放置组件移动到所述第一蒸发源腔室中。
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