[发明专利]一种表面图案化修饰的基片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510667094.2 申请日: 2015-10-15
公开(公告)号: CN105170209A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 刘笔锋;李一伟;陈璞;王亚超;冯晓均 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;B01J13/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种表面图案化修饰的基片,包括衬底以及图案化的纳米薄层,所述衬底表面带有亲水基团,所述纳米薄层为厚度小于1μm的PDMS薄层;所述图案化的纳米薄层与所述衬底键合,形成没有纳米薄层的亲水区域和具有纳米薄层的疏水区域,所述亲水区域用于吸附微流体,所述微流体为水、溶液或者悬浊液,所述微流体在所述基片表面投影的形状与对应的亲水区域的形状相同。本发明还公开了该基片的制备方法以及在制备阵列芯片中的应用。通过本发明,利用一种简单快速的工艺对基片表面进行图案化的修饰,该基片在微阵列芯片的制备中具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 表面 图案 修饰 及其 制备 方法
【主权项】:
一种表面图案化修饰的基片,其特征在于,包括衬底以及图案化的纳米薄层,所述衬底表面带有亲水基团,所述纳米薄层为厚度小于1μm的PDMS薄膜;所述图案化的纳米薄层与所述衬底键合,形成没有纳米薄层的亲水区域和具有纳米薄层的疏水区域,所述亲水区域用于吸附微流体。
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