[发明专利]复制膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201510671174.5 | 申请日： | 2015-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN106003880B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 大井秀雄 | 申请（专利权）人： | 协同国际股份公司 |
| 主分类号： | B32B7/022 | 分类号： | B32B7/022;B32B37/00;B41M5/40 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种无需复杂的转印装置，隔着遮罩材的被转印体和复制膜接触时，可以防止因气泡卷入等引起的转印于遮罩材的微细构造的缺陷(转印不良区域)的复制膜及其制造方法。本发明的特征在于，其是由软质材料形成且在表面具有微细构造的复制膜，且具有微细构造的面以由于残留应力而成为凸状的方式弯曲，形成良好的微细构造。 | ||
| 搜索关键词： | 复制 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种复制膜，其特征在于，其是由软质材料形成，且在表面具有微细构造，所述复制膜包含收缩率不同的第1软质材料与第2软质材料的2层的所述软质材料，所述第1软质材料包含聚二甲基硅氧烷与硬化剂的混合物的聚硅氧橡胶，所述第2软质材料包含聚二甲基硅氧烷与硬化剂的混合物的聚硅氧橡胶，所述第2软质材料与所述第1软质材料相比较，收缩率较大而构成，且所述第1软质材料在表面具有所述微细构造，所述复制膜的具有所述微细构造的面以由于残留应力成为凸状的方式而弯曲，所述复制膜在具有开口部的治具，将具有所述微细构造的面朝向下方载置，由所述开口部的边缘支撑的情形时，所述复制膜的自重热变形与所述残留应力引起的所述弯曲的和相对于所述治具的开口部的直径为2.0％至6.0％。
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