[发明专利]一种高晶体密度球形化NTO晶体及制备方法在审
申请号: | 201510673200.8 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN105274625A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
发明(设计)人: | 郭学永;卢佳骥;焦清介;张静元;张朴;崔超;张洪垒;李航 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C30B29/54 | 分类号: | C30B29/54;C30B7/08 |
代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 韦庆文 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种高晶体密度球形化NTO晶体及其制备方法,所述晶体中NTO含量≥99.9%,所述晶体密度≥1.92g/cm3,所述晶体短长轴比≥0.90,所述晶体的中位粒径范围为150~200μm。所述高晶体密度球形化NTO晶体的制备方法,包括如下步骤:(1)将NTO和溶剂加入反应釜内进行充分溶解,反应釜温度为40~80℃;(2)边搅拌边降低反应釜温度,形成过饱和溶液后晶核生成并成长;(3)待晶体完全析出后,低温﹣5~0℃搅拌1-5小时;(4)过滤、干燥、称重。所述晶体粒度分布窄,外观观测晶体球形度高,表面光滑,晶面无裂纹。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 密度 球形 nto 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高晶体密度球形化NTO晶体,其特征在于,所述晶体中NTO含量≥99.9%,所述晶体密度≥1.92g/cm3,所述晶体短长轴比≥0.90,所述晶体的中位粒径范围为150~200μm。
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