[发明专利]一种太阳能单晶硅片清洗剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类1～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.3～0.5％，2-乙基4-甲基咪唑0.2～0.5％，酸性蛋白酶0.3～1.2％，薄荷醇2～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2～3％，水溶性离子液体2～5％，余量为水。本发明制备的清洗剂相对于现有技术而言，具有以下优点：通过本发明特有无强酸强碱的环境下以及其他组分相互作用的养护下，不仅清洗效果好，而且不会造成对金属的腐蚀，清洗剂残留物不会出现微粒化颗粒附着于清洗对象上，避免了进一步慢性腐蚀。

主权项

一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：仲烷基磺酸钠2～4％，盐酸羟胺0.8～1.2％、酮类1～3％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，环氧基硅烷偶合剂0.3～0.5％，2‑乙基4‑甲基咪唑0.2～0.5％，酸性蛋白酶0.3～1.2％，薄荷醇2～4％，月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠2.2～3％，水溶性离子液体2～5％，余量为水。