[发明专利]基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置和方法有效
| 申请号： | 201510686403.0 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN106595858B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 李建欣;柏财勋;沈燕;许董磊;刘立银;徐文辉 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置和方法，该装置沿光路方向依次放置成像物镜、梯度干涉调制系统、探测器及信号处理系统。可实现对场景目标的二维光强信息和光谱信息的同步获取。系统采用直光路，利用双折射晶体的光学特性，设计了微型梯度干涉调制器件，将其置于成像系统的探测器靶面前，在对目标实现光谱探测的同时，对整个成像系统的体积和重量影响不大。该方法具有高光通量、高空间分辨率以及轻小型化等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 视场 梯度 调制 干涉 光谱 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于视场梯度调制干涉的高光谱成像装置，其特征在于：包括沿光路方向依次放置的成像物镜(1)、梯度干涉调制系统(2)、探测器(3)，探测器(3)和信号处理系统(4)连接；其中梯度干涉调制系统(2)包括沿光路方向依次放置的线偏振器P1、晶体平板R1、晶体楔板R2和线偏振器P2；线偏振器P2与探测器(3)靶面的大小相等，线偏振器P2的后表面贴于探测器(3)的感光面；所有光学元件相对于基底同轴等高。
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