[发明专利]色阻掩膜板及其使用方法有效
| 申请号： | 201510691024.0 | 申请日： | 2015-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN105182680B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 熊源 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种色阻掩膜板及其使用方法，色阻掩膜版包括对位涂布标识区域以及对位测试标识区域，对位涂布标识区域包括多个涂布彩膜色阻的等间距的对位涂布标识；对位测试标识区域包括多个用于涂布测试色阻的等间距的对位测试标识；其中对位测试标识和对位涂布标识一一对应；本发明还提供一种色阻掩膜板的使用方法，本发明的色阻掩膜板及其使用方法的彩膜基板的制作成本低且彩膜基板的制作流程较为简单。 | ||
| 搜索关键词： | 色阻掩膜板 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种色阻掩膜板，用于配合光刻机制作色阻测试片，其特征在于，包括：/n对位测试标识区域，包括多个等间距的对位测试标识；/n对位涂布标识区域，包括多个等间距的对位涂布标识，其中所述对位涂布标识和所述对位测试标识配合对测试色阻的涂布区域进行定位；以及/n图样掩膜区域，包括多个用于涂布所述测试色阻的掩膜图样；/n其中所述对位测试标识和所述对位涂布标识一一对应；相邻的所述对位涂布标识之间的间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的横向间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的纵向间距等于所述相邻像素的纵向间距。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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