[发明专利]光掩模坯料缺陷尺寸的评价方法、选择方法和制造方法有效

专利信息
申请号: 201510695980.6 申请日: 2015-10-23
公开(公告)号: CN105549322B 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 寺泽恒男;木下隆裕;岩井大祐;福田洋;横畑敦 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F1/84 分类号: G03F1/84
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杜丽利
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 评价光掩模坯料的缺陷尺寸。用检验光照射检验‑目标光掩模坯料并且通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验‑目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像被聚集。接着,识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分。接下来,得到该强度变化的光强度的差和得到该强度变化部分的宽度作为缺陷的表观宽度。接着,基于显示光强度的差、缺陷表观宽度和缺陷的实际宽度之间的关系的预定的转换公式计算缺陷宽度,并且评价缺陷宽度。
搜索关键词: 光掩模 坯料 缺陷 尺寸 评价 方法 选择 制造
【主权项】:
光掩模坯料缺陷尺寸的评价方法,该评价方法为评价其中至少一层薄膜在基体上形成的光掩模坯料的表面中的缺陷尺寸的方法。该评价方法包括步骤:(A1)制备具有其宽度已知并且至少为检验光学系统的标称分辨率的缺陷的参考光掩模坯料;(A2)将该缺陷的位置对准于检验光学系统的检验位置;(A3)设定检验光学系统的光学条件;(A4)用检验光照射参考光掩模坯料;(A5)通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的参考光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像聚集;(A6)识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分;(A7)得到该强度变化部分的光强度的最大值与最小值之差Ssat;(B1)制备具有其宽度小于检验光学系统标称分辨率的针孔缺陷的检验‑目标光掩模坯料;(B2)将针孔缺陷的位置对准于检验光学系统的检验位置;(B3)将检验光学系统的光学条件设定为(A3)步骤中设定的光学条件;(B4)用检验光照射检验‑目标光掩模坯料;(B5)通过检验光学系统的物镜将用检验光照射的检验‑目标光掩模坯料的区域的反射光作为该区域的放大图像聚集;(B6)识别该放大图像的光强度分布范围中的强度变化部分;(B7)得到该强度变化部分的光强度的最大值与最小值之差ΔS;(B8)识别该强度变化部分的两端作为针孔缺陷的边缘并且得到该强度变化部分的宽度作为针孔缺陷的表观宽度Wsig;以及(B9)基于以下公式(1)由针孔缺陷的表观宽度Wsig和光强度差Ssat及ΔS计算Wcal,并且将Wcal估算为针孔缺陷的宽度,Wcal=Wsig×(ΔS/Ssat)T   (1)其中T为满足0.5≤T≤0.6关系的常数。
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