[发明专利]倾斜式硅针尖及其制作方法有效
申请号: | 201510696116.8 | 申请日: | 2015-10-23 |
公开(公告)号: | CN106610439B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 李加东;苗斌;吴东岷 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | G01Q70/16 | 分类号: | G01Q70/16 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王锋 |
地址: | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种倾斜式硅针尖及其制作方法。所述针尖为三棱锥体,并具有第一倾斜面、第二倾斜面、第三倾斜面和底面,且所述第一倾斜面、第二倾斜面和第三倾斜面中至少两者与底面的夹角不相等。所述制作方法包括:在硅片上采用各向同性的刻蚀工艺加工形成所述倾斜式硅针尖的第一、第二倾斜面,之后在第一、第二倾斜面上设置保护层,再采用刻蚀工艺在所述硅片上加工形成第三倾斜面,获得目标产物。本发明提供了一种不同于传统硅针尖的倾斜式硅针尖,其能满足近场光学对实时观测的需求,且其制作方法简单,原料廉价易得,适于进行大规模生产,为硅针尖的推广和应用提供了一种新的路径。 | ||
搜索关键词: | 倾斜 针尖 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种倾斜式硅针尖的制作方法,其特征在于包括:Ⅰ、在(100)或(111)型硅片上设置光刻胶掩模;Ⅱ、采用各向同性的干法刻蚀工艺在所述硅片上刻蚀形成倾斜式硅针尖的第一、第二倾斜面;Ⅲ、去除所述硅片的光刻胶,并在所述硅片表面设置二氧化硅层作为保护层,以保护所述第一、第二倾斜面;Ⅳ、在所述保护层上加工形成第三倾斜面的刻蚀窗口;Ⅴ、采用湿法腐蚀工艺自所述刻蚀窗口腐蚀硅片表面而形成第三倾斜面;Ⅵ、采用氧化方法进行所述针尖的锐化,再除去残留的保护层,获得所述倾斜式针尖。
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