[发明专利]一种基于反射光谱的变量施药窗口期决策方法在审
| 申请号： | 201510702602.6 | 申请日： | 2015-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN105352899A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | 马伟;王秀;宋健 | 申请（专利权）人： | 北京农业信息技术研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 郝瑞刚 |
| 地址： | 100097 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及农业技术领域，尤其涉及一种基于反射光谱的变量施药窗口期决策方法。该方法包括：将多组对照试验作物安装在可移动实验箱内，其中该多组对照试验作物包括空白对照组和染病对照组；通过光谱仪获取所述空白对照组的正常光谱及该空白对照组在变量施药后的各自光谱；通过光谱仪分别获取各个染病对照组的特征光谱；然后计算机控制系统结合反馈的光谱信息建立特征光谱的数据库，并得出不同病害程度光谱；通过光谱仪分别获取各个染病对照组在变量施药后的各自光谱，然后对药效进行评价试验，从而得出药剂对作物防治的最佳窗口期；根据最佳窗口期对不同病害程度光谱进行验证，以保证测试数据的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 反射 光谱 变量 施药 窗口期 决策 方法 | ||
【主权项】：
一种基于反射光谱的变量施药窗口期决策方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、将多组对照试验作物安装在可移动实验箱内，其中该多组对照试验作物包括未染病的空白对照组和接种病害程度不同的染病对照组；S2、通过光谱仪获取所述空白对照组的正常光谱及该空白对照组在变量施药后的各自光谱，并将获取的光谱信息反馈至计算机控制系统；S3、通过光谱仪分别获取各个染病对照组的特征光谱并反馈至计算机控制系统中；然后计算机控制系统结合步骤S2中反馈的光谱信息建立特征光谱的数据库，并得出不同病害程度光谱；S4、通过光谱仪分别获取各个染病对照组在变量施药后的各自光谱，然后对药效进行评价试验，从而得出药剂对作物防治的最佳窗口期；S5、根据最佳窗口期对不同病害程度光谱进行验证，以保证测试数据的准确性。
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