[发明专利]MEMS器件及其制造方法有效
| 申请号： | 201510703771.1 | 申请日： | 2015-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN105197871B | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 闻永祥;陈向东;刘琛;季锋 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰微电子股份有限公司;杭州士兰集成电路有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/02 | 分类号： | B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张振军 |
| 地址： | 310012*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种MEMS器件及其制造方法，该器件包括：基底；布线埋层，位于所述基底上，所述布线埋层图形化为一个或多个布线图形；牺牲层，位于所述基底上，所述牺牲层中具有空腔，所述布线图形的至少一部分位于所述空腔内；运动质量块层，所述运动质量块层的至少一部分由所述牺牲层支撑，所述运动质量块层包括位于所述空腔上方的运动质量块，所述运动质量块朝向所述空腔的表面具有向所述空腔突出的突点。本发明能够减小了运动质量块与布线图形、基底之间的接触面积，可以有效减少或防止粘连。 | ||
| 搜索关键词： | mems 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种MEMS陀螺仪、加速度计器件，其特征在于，包括：基底；布线埋层，位于所述基底上，所述布线埋层图形化为一个或多个布线图形；牺牲层，位于所述基底上，所述牺牲层中具有空腔，所述布线图形的至少一部分位于所述空腔内；运动质量块层，所述运动质量块层的至少一部分由所述牺牲层支撑，所述运动质量块层包括位于所述空腔上方的运动质量块，所述运动质量块朝向所述空腔的表面是平坦表面，且具有向所述空腔突出且位于所述布线图形上方的突点，所述运动质量块与所述突点为一体形成。
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