[发明专利]电路载体和制造方法及制造和运行电路装置的方法在审

专利信息
申请号: 201510708276.X 申请日: 2015-10-27
公开(公告)号: CN105575936A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: C·埃勒斯;T·洪格尔 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L23/492 分类号: H01L23/492;H01L21/56;H01L21/58
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 德国诺伊*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种电路载体(2)。其具有介电的绝缘载体(20)、覆层在介电的绝缘载体(20)上的上金属化层(21)以及介电涂层(3)。上金属化层(21)具有金属化部段(25),其具有朝向绝缘载体(20)的下侧(25b)、背向绝缘载体(20)的上侧(25t)以及环形封闭的侧面(25s),其在侧面界定了金属化部段(25)并且连续地在上侧(25t)和下侧(25b)之间延伸。介电涂层(3)位于侧面(25s)和上侧(25t)上,并且连续地从侧面(25s)延伸到上侧(25t)上。
搜索关键词: 电路 载体 制造 方法 运行 装置
【主权项】:
一种电路载体,具有:介电的绝缘载体(20);上金属化层(21),所述上金属化层覆层在介电的所述绝缘载体(20)上并且具有金属化部段(25),其中,所述金属化部段(25)具有朝向所述绝缘载体(20)的下侧(25b)、背向所述绝缘载体(20)的上侧(25t)以及环形封闭的侧面(25s),所述侧面在侧面界定了所述金属化部段(25)并且连续地在所述上侧(25t)和所述下侧(25b)之间延伸;介电涂层(3),所述涂层位于所述侧面(25s)和所述上侧(25t)上,并且连续地从所述侧面(25s)延伸到所述上侧(25t)上。
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