[发明专利]一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201510708770.6 | 申请日： | 2015-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN105242334B | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 高俊华;曹鸿涛;惠帅;王小雨 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 刘诚午 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜，自基底向外依次包括第一金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第一陶瓷层、第二金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第二陶瓷层、直至第n金属纳米线阵列‑陶瓷复合层和第n陶瓷层，所述的第n陶瓷层为陶瓷钝化层，所述的2≤n≤5；所述的金属纳米线包括金、铂、银、铜或铝纳米线；所述的陶瓷包括氧化物、氮化物、碳化物或硼化物；所述陶瓷钝化层为氧化物、氮化物、碳化物或硼化物钝化层。该方法的优势在于对衬底材料导电能力不作要求，在绝缘、导电、半导体等各类型衬底上均可制备，便于复合薄膜与其它功能部件集成制备，拓宽超快非线性光学响应薄膜的应用空间。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷层 非线性光学响应 金属纳米线阵列 陶瓷复合层 钝化层 制备 金属陶瓷薄膜 陶瓷 氮化物 硼化物 碳化物 氧化物 多层 宽谱 功能部件集成 金属纳米线 衬底材料 导电能力 复合薄膜 铝纳米线 应用空间 导电 衬底 基底 绝缘 薄膜 半导体 | ||
【主权项】：
一种宽谱超快非线性光学响应性能的多层金属陶瓷薄膜，其特征在于，自基底向外依次包括第一金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第一陶瓷层、第二金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、第二陶瓷层、直至第n金属纳米线阵列‑陶瓷复合层和第n陶瓷层，所述的第n陶瓷层为陶瓷钝化层，2≤n≤5；所述的金属纳米线包括金、铂、银、铜或铝纳米线；所述的陶瓷包括氧化物、氮化物、碳化物或硼化物；所述陶瓷钝化层为氧化物、氮化物、碳化物或硼化物钝化层。
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