[发明专利]一种涂胶显影工艺模块及该模块内环境参数的控制方法在审
| 申请号： | 201510712262.5 | 申请日： | 2015-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN106610568A | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 胡延兵;郭聪 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司21002 | 代理人： | 何丽英 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体技术领域，具体的说是一种涂胶显影工艺模块及该模块内环境参数的控制方法。包括涂胶显影工艺模块箱体、离心涂胶显影工艺腔体，其中涂胶显影工艺模块箱体为封闭式，其内部设有离心涂胶显影工艺腔体，涂胶显影工艺模块箱体的顶部设有与供风系统连接的大截面气流导入口，底部设有多个与排风系统连接的离心腔体周边小截面气流导出口和离心腔体小截面气流导出口，涂胶显影工艺模块箱体内的气流呈现由上向下的流动状态，导入气流的流速、颗粒度、氨含量及温度和湿度参数均可控。本发明保障大规模集成电路生产线上涂胶显影机的高工艺性能指标的实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂胶 显影 工艺 模块 内环境 参数 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种涂胶显影工艺模块，其特征在于，包括涂胶显影工艺模块箱体(1)、离心涂胶显影工艺腔体(2)、供风系统及排风系统，其中涂胶显影工艺模块箱体(1)为封闭式结构，其内部设有所述离心涂胶显影工艺腔体(2)，所述涂胶显影工艺模块箱体(1)的顶部设有大截面气流导入口(6)，底部设有多个离心腔体周边小截面气流导出口(12)，所述离心涂胶显影工艺腔体(2)的底部设有多个离心腔体小截面气流导出口(13)，所述大截面气流导入口(6)与供风系统连接，所述离心腔体周边小截面气流导出口(12)和离心腔体小截面气流导出口(13)均与排风系统连接，所述涂胶显影工艺模块箱体(1)内的气流呈现由上向下的流动状态。
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