[发明专利]一种激光扫描填充系统及其扫描填充方法有效

专利信息
申请号: 201510713499.5 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN105215546A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 张立国 申请(专利权)人: 武汉铱科赛科技有限公司
主分类号: B23K26/082 分类号: B23K26/082
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 陈薇
地址: 430073 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种激光扫描填充系统及激光扫描填充方法,所述系统包括计算机、激光聚焦模块、填充扫描激光偏转控制模块、光束发散扩束光学模块、截面经络扫描模块和激光平场聚焦模块。本发明由计算机对待填充扫描截面事先进行了扫描填充区域划分和扫描经络路径划分,并分别控制填充扫描激光偏转控制模块和截面经络扫描模块进行填充扫描和经络扫描,充分利用截面经络扫描模块特别是振镜的直线长距离经络路径扫描运动能力和填充扫描激光偏转控制模块局部高速高精度填充扫描运动的优势,对激光束同时进行填充速度扫描调制和经络扫描运动调制,使得整体激光填充扫描效率和精度获得突破性提高。
搜索关键词: 一种 激光 扫描 填充 系统 及其 方法
【主权项】:
一种激光扫描填充系统,其特征在于,所述系统包括计算机、激光聚焦模块、填充扫描激光偏转控制模块、光束发散扩束光学模块、截面经络扫描模块和激光平场聚焦模块;所述计算机,用于根据待填充扫描截面面积和形状以及填充扫描激光偏转控制模块控制填充扫描的实时扫描宽度范围能力,对待填充扫描截面进行填充区域划分,并在相邻两条填充区域线之间确定一条扫描经络线;还用于将填充扫描范围信息发送给所述填充扫描激光偏转控制模块以及将经络扫描位置信息发送给截面经络扫描模块;所述激光聚焦模块,用于将入射激光束进行聚焦,形成入射所述填充扫描激光偏转控制模块的聚焦的第一激光束;所述填充扫描激光偏转控制模块,用于根据计算机发送的填充扫描范围信息对所述聚焦的第一激光束的扫描填充运动控制,形成入射所述光束发散扩束光学模块的第二激光束;所述光束发散扩束光学模块,用于对聚焦状态的第二激光束进行发散光学处理,获取扩束的第三激光束,其中,在所述光束发散扩束光学模块内部透镜全部拆除的条件下,所述第一激光束和/或第二激光束激光焦点处于所述光束发散扩束光学模块内部或者输出端后端;所述截面经络扫描模块,用于根据计算机发送的经络扫描位置信息完成对所述第三激光束的经络路径扫描运动控制,输出第四激光束;所述激光平场聚焦模块,用于对所述第四激光束的平场聚焦,平场聚焦后输出的第五激光束对待加工工件的待填充扫描截面进行扫描填充加工。
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